我国集成电路重大专项成绩斐然。专项实施前,我国集成电路高端装备和材料基本处于空白状态,完全依赖进口,产业链严重缺失。通过9年艰苦攻关,我国成功研制14纳米刻蚀机、薄膜沉积等30多种高端装备和靶材、抛光液等100多种材料产品,性能达到国际先进水平,通过了大生产线的严格考核,开始批量应用并出口到海外,实现了从无到有的突破,填补了产业链空白。同时,制造工艺与封装集成由弱渐强,技术水平飞速跨越,国际竞争力大幅提升。2008年以前,我国集成电路制造最先进的量产工艺为130纳米、研发工艺为90纳米,专项实施至今,主流工艺水平提升了5代,55、40、28纳米三代成套工艺研发成功并实现量产,22、14纳米先导技术研发取得突破,并形成自主知识产权。封装企业三维高密度集成技术研发也达到国际先进水平。可喜的还有,集成电路专项高度重视创新技术研究,从战略高度布局核心技术的知识产权,已申请了2.3万余项国内发明专利和2000多项国际发明专利,所形成的知识产权体系使国内企业在国际竞争中的实力和地位发生了巨大变化,发展模式也从“引进消化吸收再创新”转变为“自主研发为主加国际合作”的新模式。