1.NAND闪存
首先:NAND闪存物理实体结构
闪存的内部存储结构是金属-氧化层-半导体-场效晶体管(MOSFET),里面有一个浮置栅极(Floating Gate),是真正存储数据的单元。
数据在闪存的存储单元中是以电荷(electrical charge)形式存储的。存储电荷的多少,取决于控制栅极(Controlgate)所被施加的电压,其控制了是向存储单元中冲入电荷还是使其释放电荷。而数据的表示,以所存储的电荷的电压是否超过一个特定的阈值Vth来表示。
对于NAND闪存的写入(编程),就是控制Control Gate去充电(对Control Gate施加电压),使得浮置栅极存储的电荷够多,超过阈值 Vth,就表示0。对于NAND Flash的擦除(Erase),就是对浮置栅极放电,低于阈值 Vth,就表示1。
而NAND的物理实体结构决定了其特性
首先:NAND闪存物理实体结构
闪存的内部存储结构是金属-氧化层-半导体-场效晶体管(MOSFET),里面有一个浮置栅极(Floating Gate),是真正存储数据的单元。
数据在闪存的存储单元中是以电荷(electrical charge)形式存储的。存储电荷的多少,取决于控制栅极(Controlgate)所被施加的电压,其控制了是向存储单元中冲入电荷还是使其释放电荷。而数据的表示,以所存储的电荷的电压是否超过一个特定的阈值Vth来表示。
对于NAND闪存的写入(编程),就是控制Control Gate去充电(对Control Gate施加电压),使得浮置栅极存储的电荷够多,超过阈值 Vth,就表示0。对于NAND Flash的擦除(Erase),就是对浮置栅极放电,低于阈值 Vth,就表示1。
而NAND的物理实体结构决定了其特性