目前咱们国家的离子注入机已经完全剥离美国技术实现国产化，覆盖28nm量产芯片线………
中微的刻蚀机是国产化最出色的，在脱离美国技术已经突破到了5nm，28nm自然不在话下………
最关键的光刻机，上海微电子的紫光DUV光刻机今年下半年下线，采用国产和日本零部件研发而成，理论最高覆盖7nm，自然28nm量产没问题……
也就是说，经过三年的努力，28nm芯片已经可以在离开美国技术的情况下量产了，28nm及以上成熟工艺美国再限制已经没用了………
不过我还是担心光刻机，虽然摆脱美国技术，但日本零部件，感觉有些不靠谱………万一日本屈服美国压力直接断了零部件供应………需要警惕啊……
继续加油吧………
