这得支持。

反正美国是一面镜子，中国的哪个高校或公司对美国威胁大，看美国的操作就知道了。

光源不是asml研究的，他们也没这能力，镜头工作台也不是asml研究的，他们还是没这能力，他们就是个集成商

希望国产崛起吧。

光源中国一直是顶尖，中国差的是镜头，镜头亚琛一家人祖传，纯手工制作，全凭感觉，不能机器制造。

口号年年喊 ，现在还是90

耗材，殖人：假新闻，一辈子不可能。！

一步一步的来，从一个零件、一项技术逐步突破，最后整合起来，都说没有一个国家能独立设计制作光刻机，也许到了这会发生奇迹。

这个东西就不是哪个科研单位能造出来的

不是说上海有28NM光刻机了

半导体根本不是说多少多少纳米就牛了，全国产现在难以做到14nm的原因有很多，例如光源或者是finfet工艺等，一般来说解决finfet就能做到14nm到3nm，要是真90nm那还是在平面fet的水平，我们应该已经解决finfet这个问题一段时间了，只要保证去美就足够。我国在半导体科研的前沿应该来说还是不弱，比如mos2的一些工作做到1nm以内国内有不少课题组能做，碳纳米管沟道也有眼研究。现在正好赶上finfet的工艺被开发到尽头，卡在3nm无法前进，我们布局新一代非硅基沟道然后再光刻机赶上我觉得这一天将不久能看到

0到1比1到100还是要难的

台积电已经2NM了，过两年人家也会进步，估计纯国产至少5年才能追平

多造点军舰，真出来了老美会拼命的。