X荧光膜厚仪是一种用于测量材料表面涂层厚度和元素成分的设备。它是基于X射线荧光技术（XRF）和能量色散X射线谱（EDXRF）技术开发而来。
X荧光膜厚仪的主要工作原理是通过发射X射线照射到样品表面，然后检测从样品反射回来的X射线。当X射线与样品中的元素相互作用时，会激发出特征X射线，这些特征X射线的能量与样品中元素的原子序数有关。通过测量这些特征X射线的能量和强度，可以确定样品中元素的种类和含量。
X荧光膜厚仪通常采用非接触式测量方式，可以快速、准确地测量材料表面的涂层厚度和元素成分。这种仪器具有以下几个优点：
非破坏性：X荧光膜厚仪不会对样品造成物理损害，可以用于测量珍贵或易碎的样品。
快速测量：X荧光膜厚仪的测量速度非常快，可以在几秒钟到几分钟内完成一次测量。
精确度高：X荧光膜厚仪可以提供高精度的测量结果，通常误差在±1%以内。
可以分析多种元素：X荧光膜厚仪可以分析样品中多种元素，包括金属、非金属、稀土元素等。
无需制备样品：X荧光膜厚仪可以直接对样品进行测量，无需进行特殊制备，非常方便。
X荧光膜厚仪广泛应用于制造业、科研机构、质量检测部门等领域，用于测量金属、非金属、陶瓷、塑料等各种材料表面涂层厚度和元素成分分析。

实谱仪器，名字起的不错