🔍 N型ITO靶材专注精度与性能
N型ITO靶材通过精密工艺制备，使得靶材的组分均一性得到显著提升。适用于高端显示技术的制备，这一靶材具有以下几个技术亮点：
🎯 组分精确控制：铟锡比达到精确的90:10，为薄膜的优异电导率提供了基础。
🎯 粒径优化：通过特殊工艺精炼，靶材颗粒尺寸均匀，确保薄膜生长过程中的均匀性与光滑性。
🎯 电阻率低至1.5×10^-4 Ω·cm，使我们的ITO靶材在透明导电膜中的应用更为高效，从而大幅提升最终产品的显示效果和触控灵敏度。
每一块靶材，都是对品质与创新承诺的体现。选择N型ITO靶材，即选择了与未来显示技术同步前进的力量！