继四重曝光后又公开了六重曝光

之前的四重曝光是21年提交申请的，上周公开的。这个昨天公开的专利是22年提交申请的。

@USG圣室号请大佬解读下。

应该是7nm duv +，相当于7nm euv密度，没什么奇怪的。只是解决5nm EUV罢了。估计是9100就是这个六重的。
这个是duv光刻机工艺的技术

是不是5nm没问题了，微博上有发5解决了，被删好几条

良率成本？

估计成本不低，价格下不来

不如小米龙晶陶瓷

荷兰人来了，上筹码了

成本高，良率低，极限压榨duv光刻机的性能。

力大砖飞也是解决办法，现在EUV无法多重曝光或者成本过高，DUV加大功率多重曝光几次也是解决办法，工程问题从来就不止一种解决方式。

这不是跟军儿和米儿的9000压铸机改一个数变9100一个性质吗

22年就申请这玩意，23年应该还有更厉害的？

第一步先解决能用吧，能用了再着眼于如何改进

等超大光刻机建好，突破分分钟的事

先解决有的问题，成本后期规模后可以降

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