一、PVD镀膜 和CVD镀膜
PVD和CVD都是常见的气相沉积成膜技术，主要用于金属或合金材料表面的涂层处理。
PVD镀膜是物理气相沉积技术中的一种，它是指在真空下使用离子源将原子或离子在表面上沉积。PVD镀膜的优点在于它具有良好的熔点和蒸发点以及卓越的耐磨性和抗腐蚀性.。
CVD镀膜则是化学气相沉积技术的一种，它是在高温、高压和气体反应条件下制备的，可以在表面上产生有机或无机化学反应。CVD膜层通常比PVD膜层要薄，形状很复杂的用CVD工艺会更好，CVD镀膜也具有很高的耐磨性和抗腐蚀性。
总而言之，PVD镀适合制造需要高耐磨性和抗腐蚀性的金属制品，而CVD镀膜适合制造复杂形状的材料。
二、派瑞林
派瑞林的沉积方式为CVD，镀膜流程是以Parylene原料为粉末状材料，放在镀膜设备的蒸发炉里，通过真空且150℃高温的条件下，将固态原料生化为气态，再经过，高温650-700℃热解的条件下将气态原料裂解成具有反应活性的单体。气态单体在室温下以纳米级的速度沉积并聚合。
派瑞林气相沉积涂敷工艺具有以下独特的防护优点：
(1)“无孔不入”性
派瑞林涂膜是由活性小分子在基材表面“生长”出的敷形的聚合物薄膜涂层。由于是在真空条件下形成的，它能涂敷到各种形状的表面，包括尖锐的棱边、裂缝和内表面。
(2)可以提供真正无针孔的保护层。
派瑞林沉积过程是将二甲苯环二聚体加热气化后再经高温裂解成游离的气相分子，并在真空、室温条件下瞬间吸附在基板上聚合成膜，形成气密性很 好的保护膜。由于涂料中不含溶剂，所以克服了已往使用的溶剂性涂料在烘干过程中因溶剂挥发而必然会留下许多细微针孔的缺点，可以提供真正的无针孔 的保护膜。
(3)各局部点的独立防护性能与整体防护性能相结合的特有的防护性能。