跨越时空的科技创新，高精度光刻成就文化教育未来
华钛技术是172纳米真空紫外光刻-表面处理系统 π²-Cygni的国内独家代理商，在半导体测试与工艺方面，为客户提供成熟的测试测量仪器和解决方案。
高精度光刻--实现如此简单
使用简洁的设计和简约的方法，α -line重新定义了的手动对准系统的性能期望和价格范围。利用CygnusPhotonic技术较好的π-Photon 172nm光源，α-line简化了传统的高分辨率光刻，并引入了现有对准系统不易实现的新处理能力。α-line是一款通用型手动对准和曝光系统，使准直机( aligner)的应用领域不再局限于微电子和传统光刻胶。采用少有的技术，可以直接在各种有机物例如PMMA、ABS或其他有机材料上进行光刻，使α -line成为MEMS、微流控、生物工程和生命科学等研究领域的理想工具。
特点
1.高分辨率对准和曝光系统，小型、桌面式
2.经典设计，高精度、高稳定性、操作简单
3.扩展光刻胶和衬底的材料范围，打破传统光刻工艺的限制
4.一致的、高质量的曝光结果，零培训、零基础即可操作
5.无需超净间、任何地点都可以光刻；低功耗、可选电池供电
6.搭建即可运行，牢固的机械结构和光学器件，无需额外维护和校准
7.应用领域: 半导体、微流控、生物芯片、光学器件，及更多应用领域
高精度光刻的应用
1. 高精度多层光刻/套刻
2. 有机物直接光刻和图形化-微流控、生物芯片-光学元件、薄膜器件
3. 表面图形化和表面能改性
4. 表面性能选择和筛选
华钛技术是172纳米真空紫外光刻-表面处理系统 π²-Cygni的国内独家代理商，在半导体测试与工艺方面，为客户提供成熟的测试测量仪器和解决方案。
高精度光刻--实现如此简单
使用简洁的设计和简约的方法，α -line重新定义了的手动对准系统的性能期望和价格范围。利用CygnusPhotonic技术较好的π-Photon 172nm光源，α-line简化了传统的高分辨率光刻，并引入了现有对准系统不易实现的新处理能力。α-line是一款通用型手动对准和曝光系统，使准直机( aligner)的应用领域不再局限于微电子和传统光刻胶。采用少有的技术，可以直接在各种有机物例如PMMA、ABS或其他有机材料上进行光刻，使α -line成为MEMS、微流控、生物工程和生命科学等研究领域的理想工具。
特点
1.高分辨率对准和曝光系统，小型、桌面式
2.经典设计，高精度、高稳定性、操作简单
3.扩展光刻胶和衬底的材料范围，打破传统光刻工艺的限制
4.一致的、高质量的曝光结果，零培训、零基础即可操作
5.无需超净间、任何地点都可以光刻；低功耗、可选电池供电
6.搭建即可运行，牢固的机械结构和光学器件，无需额外维护和校准
7.应用领域: 半导体、微流控、生物芯片、光学器件，及更多应用领域
高精度光刻的应用
1. 高精度多层光刻/套刻
2. 有机物直接光刻和图形化-微流控、生物芯片-光学元件、薄膜器件
3. 表面图形化和表面能改性
4. 表面性能选择和筛选
