写乐官网最近发布消息,称其金属件的电镀方式更换工艺为离子电镀。查了一下资料————
离子电镀和普通电镀的主要区别在于沉积方式、适用范围和涂层特性。
沉积方式
离子电镀:离子电镀是在高真空条件下,利用气体放电使气体或被蒸发物质部分电离,并在气体离子或被蒸发物质离子的轰击下,将蒸发物质或其反应物沉积在基片上。这种方法可以形成均匀的涂层,并且可以在不同的基材上进行处理12。
普通电镀:普通电镀是通过电解反应在电极表面沉积金属离子。具体来说,将金属板做成阴极,含有金属离子的溶液做成阳极,在施加一定电压的条件下,金属离子在阴极表面进行还原反应,被还原为金属原子并沉积到阴极表面形成金属涂层1。
适用范围和涂层特性
离子电镀:离子电镀适用于高真空环境,可以在不同的基材上进行涂层处理,具有广泛的适用性。其涂层成分单一,具有较好的耐腐蚀性能,可以提高材料的硬度、耐磨性和光泽度等性能12。
普通电镀:普通电镀适用于一般环境,工艺简单、稳定可靠,操作方便,成本较低。其涂层可以控制厚度和成分,但硬度和耐磨性较低,可以通过增加涂层厚度或其他成分来增强其性能1。
具体应用场景
离子电镀:由于其高真空环境和均匀的涂层特性,离子电镀主要适用于高要求的材料表面处理,如航空、航天等领域1。
普通电镀:普通电镀适用于一般要求的材料表面处理,如汽车、电器等行业1。
环保性和投资成本
离子电镀:虽然投资成本较高,但其工艺及材料不含重金属和其他有毒化学物质,不污染环境,对人体无害3。
普通电镀:虽然投资成本较低,但其工艺及材料可能含有重金属和其他有毒化学物质,对环境有一定影响3。
综上所述,离子电镀和普通电镀在沉积方式、适用范围、涂层特性等方面存在显著差异,选择哪种技术取决于具体的应用需求和环境要求。
离子电镀和普通电镀的主要区别在于沉积方式、适用范围和涂层特性。
沉积方式
离子电镀:离子电镀是在高真空条件下,利用气体放电使气体或被蒸发物质部分电离,并在气体离子或被蒸发物质离子的轰击下,将蒸发物质或其反应物沉积在基片上。这种方法可以形成均匀的涂层,并且可以在不同的基材上进行处理12。
普通电镀:普通电镀是通过电解反应在电极表面沉积金属离子。具体来说,将金属板做成阴极,含有金属离子的溶液做成阳极,在施加一定电压的条件下,金属离子在阴极表面进行还原反应,被还原为金属原子并沉积到阴极表面形成金属涂层1。
适用范围和涂层特性
离子电镀:离子电镀适用于高真空环境,可以在不同的基材上进行涂层处理,具有广泛的适用性。其涂层成分单一,具有较好的耐腐蚀性能,可以提高材料的硬度、耐磨性和光泽度等性能12。
普通电镀:普通电镀适用于一般环境,工艺简单、稳定可靠,操作方便,成本较低。其涂层可以控制厚度和成分,但硬度和耐磨性较低,可以通过增加涂层厚度或其他成分来增强其性能1。
具体应用场景
离子电镀:由于其高真空环境和均匀的涂层特性,离子电镀主要适用于高要求的材料表面处理,如航空、航天等领域1。
普通电镀:普通电镀适用于一般要求的材料表面处理,如汽车、电器等行业1。
环保性和投资成本
离子电镀:虽然投资成本较高,但其工艺及材料不含重金属和其他有毒化学物质,不污染环境,对人体无害3。
普通电镀:虽然投资成本较低,但其工艺及材料可能含有重金属和其他有毒化学物质,对环境有一定影响3。
综上所述,离子电镀和普通电镀在沉积方式、适用范围、涂层特性等方面存在显著差异,选择哪种技术取决于具体的应用需求和环境要求。