MOCVD技术概述
金属有机化学气相沉积（metal-Organic Chemical Vapor Deposition，简称MOCVD）是一种用于制造半导体器件的气象沉积技术。
MOCVD技术通过将金属有机化合物在高温下分解，生成薄膜材料并沉积在衬底上，从而实现半导体器件的制造。由于MOCVD具有高纯度、高均匀性和可控制性等优点，因此在半导体产业中得到了广泛应用。