这是一种用于生产高质量、单一晶体薄膜材料的技术，广泛应用于半导体行业。MOCVD 主要用于制造化合物半导体如砷化镓 (GaAs)、磷化铟 (InP) 和各种 III-V 族及 II-VI 族材料等。

在 MOCVD 过程中，含有所需元素的气体（通常是金属有机化合物）被引入到反应室中，在那里它们与其它气态反应物发生化学反应，并在基板上沉积形成固体薄膜。

这种方法可以精确控制薄膜的厚度和成分，从而得到所需的光学、电学和物理性能。

MOCVD 技术的应用包括但不限于：

制造发光二极管（LEDs）

制造太阳能电池

制作其他类型的电子器件和光电器件

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